このセクションでは、Siスラブの表面へのC 2 H 4分子の表面吸着を計算するためのモデル作成と計算結果について説明します。

シリコン表面へのエチレンの吸着

このセクションでは、Cの表面吸着を計算するためのモデル作成と計算結果について説明します。 2 H 4 Siスラブの表面上の分子。まず、Si 100 スラブと C を組み合わせたモデルの作成方法を説明します。 2 H 4。 SiスラブとCを選択した後、マルチマテリアル3Dエディターを使用して作成できます。 2 H 4。

図 1 C 2 H 4 は Si 100 スラブの表面に置かれています。

表 1 計算条件
itemdetail
Spreadsheet softwareQuantum ESPRESSO
PseudopotentialSi_pbe_gbrv_1.0.upf
C_pbe_gbrv_1.2.upf
H_pbe_gbrv_1.4.upf
Cutoff wave function40 Ry
Cutoff electron density200 Ry
k point3 x 3 x 1
Convergence threshold10-6 _
mixing parameter0.3
Atomic number46 atoms
Si: 40
C: 2, O: 4
CPUIntel ®  Xeon ®  CPU
E5-2666 v3 @ 2.90GHz
Number of cores36 core

図2 Si 100の表面にC 2 H 4を吸着させた場合の最適化された構造

構造の最適化にかかった時間と時間を示します。コンバージェンス閾値とミキシングパラメータは精度を高めるために設定されているので計算時間は少し長くなりますが、クラウド対応なのでリソースの心配はほとんどありません。

表2 計算時間と計算コスト

アイテム値計算時間 10 時間 18 分 28 秒 (3,7108 秒) 計算コスト $7.42

* 計算コストは、エンタープライズエクストラプランでセービングノードを使用した場合の料金です。

オリジナルソース: https://ctc-mi-solution.com/シリコン表面におけるエチレンの吸着/